超纯水系统（ULTRE PURE WATER，简称UPW）是指从原水（通常为自来水或者产线回收水）经由多重过滤，离子交换，逆渗透，紫外线杀菌，UV酸化装置，脱气膜、高纯度树脂、超滤所产生的极高程度纯水系统。

超纯水的规格因应用而异，但通常应具有18.2 MΩ-CM 或更高的电阻率，低水平的离子（如钠、钾和钙），低水平的有机和无机污染物，低水平的细菌和颗粒物，中性pH值为7.0。

此外，超纯水可以进一步净化以满足特定要求，例如半导体制造中低硅酸盐含量。因此被誉为半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件等领域的工业血脉。超纯水处理的标准为末端出水电阻率≥18MΩ。

清洗

半导体生产过程中，硅片需要经历多次的蚀刻、沉积、光刻等步骤。在每个步骤之后，都需要使用超纯水进行清洗，以去除残留在硅片上的化学物质和微小杂质。杂质如果不清洗干净，将会对后续的制程步骤产生影响，甚至可能导致产品性能下降。

冷却

半导体生产设备在运行过程中会产生大量的热量。超纯水因其良好的热导率和纯度，常被用作设备的冷却剂，帮助保持设备的稳定运行。

湿蚀刻和化学机械抛光（CMP）

在某些湿蚀刻或者化学机械抛光（CMP）过程中，超纯水作为制程介质使用。超纯水的纯度能够保证这些过程的精度和质量。

稀释剂

在半导体制造过程中，许多化学品需要稀释后使用，超纯水就是理想的稀释剂。

光刻

在光刻过程中，超纯水也被用于清洗和冲洗光阻涂层，以确保光刻质量。